توسعه دستگاه های تراشه سازی EUV توسط چین
گزارش های اخیر نشان می دهد که چین به پیشرفت چشمگیری در توسعه دستگاه های لیتوگرافی فرابنفش فوق بازده (EUV) دست یافته است. شرکت SMIC، همراه با هواوی و HiSilicon، موفق به تولید نمونه اولیه این دستگاه ها شده اند که در حال حاضر در یکی از کارخانه های هواوی تحت آزمایش قرار دارد.
تحریم ASML؛ عامل اصلی پیشرفت چین در تولید EUV
دولت ایالات متحده فشارهای زیادی بر ASML، شرکت هلندی سازنده دستگاه های EUV، وارد کرده تا از فروش این فناوری به چین جلوگیری کند. این تحریم ها، که مانع از دسترسی چین به تجهیزات حیاتی برای تولید تراشه های پیشرفته شده، باعث شد پکن سرمایه گذاری گسترده ای در توسعه بومی این فناوری انجام دهد.
برنامه ریزی برای تولید آزمایشی و انبوه
طبق گزارش های منتشرشده، چین قصد دارد تولید آزمایشی این دستگاه ها را در سه ماهه سوم سال 2025 آغاز کند. در صورت موفقیت آمیز بودن آزمایش ها، تولید انبوه می تواند از سال 2026 آغاز شود. این اقدام، نقطه عطفی در صنعت نیمه هادی محسوب می شود و ممکن است انحصار ASML در این بازار را به چالش بکشد.
0 نظر ثبت شده
0 نظر ثبت شده
تمام حقوق محفوظ است
ثبت یک نظر